Японская компания Dai Nippon Printing анонсировала усовершенствование процесса нанолитографии, который может значительно снизить затраты по сравнению с доминирующей на рынке фотолитографией, сообщает Nikkei Asia. В настоящее время нидерландская ASML контролирует почти 90% рынка оборудования для производства чипов, используя фотолитографию, требующую мощные УФ-лазеры и большие энергетические затраты, а стоимость машин может достигать сотен миллионов долларов.
Новая технология от Dai Nippon Printing возвращает к жизни нанолитографию, где схемы формируются не лазером, а методом отпечатывания на кремниевых пластинах. Ранее считалось, что этот метод не подходит для производства чипов с узлом менее 2 нанометров, однако инженеры компании разработали специальный материал, позволяющий создать точный след для травления.
Ключевым компонентом также стало оборудование от Canon, способное генерировать структуры размером до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии. Ведущие производители, среди которых Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia, уже проявили интерес. Kioxia запустила тестовое производство, и если оно пройдет успешно, массовое внедрение новинки может начаться в 2027-2028 годах.
