В Зеленограде представлено новейшее оборудование для плазмохимического осаждения и травления, необходимых для производства чипов, разработанное НИИМЭ и НИИТМ. Это событие произошло 10 декабря, когда были подписаны документы о госприемке оборудования. Головным исполнителем проекта стал НИИ молекулярной электроники, который обеспечил создание чистых производственных помещений и испытания.
Инвестиции в проект составили 2,5 млрд рублей, включая средства от Минпромторга и вложения НИИМЭ в подготовку чистых комнат. Новые кластерные системы способны выполнять 30–40% операций, необходимых для производства микросхем, что значительно снижает себестоимость и повышает качество продукции.
Установки позволят производить интегральные микросхемы на пластинах 200 мм и 300 мм с топологическим уровнем до 65 нм. Это обеспечит гибкость и подготовку к переходу на 300-мм технологии. НИИМЭ и НИИТМ вошли в пятерку мировых разработчиков ткого оборудования. В 2026 году планируется презентация оборудования в Китае, что открывает новые возможности для поиска заказчиков.
