В марте 2026 года Россию ждут значимые изменения: стартует разработка литографа для чипов с топологией 90 нм. Замминистра промышленности Василий Шпак озвучил данную новость на конференции по радиоэлектронной промышленности. Исполнитель будет определён после проведения конкурсного отбора, однако подробности о проекте остаются неизвестными.
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) совместно с белорусским предприятием «Планар» активно работают над созданием литографов, уже достигших 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв пока не сообщил, будет ли компания принимать участие в конкурсе.
На данный момент продолжается разработка оборудования для 130 нм, планируемая к завершению в ноябре 2026 года. Стоимость такого литографа составляет 6 миллионов долларов, а скорость обработки — от 100 до 140 пластин в час. Эксперты считают, что создание литографа с нуля может занять от 5 до 10 лет и потребовать сотни миллионов долларов, в то время как локализация существующих решений может занять 2-4 года.
Чипы по 130 нм используются в автомобильной электронике, автоматизации и энергетике. Основная задача заключается не только в наличии литографа, но и в создании полной экосистемы необходимых компонентов. Эксперт Алексей Бойко также отметил, что при доработке существующих технологий литограф может производить чипы с разрешением 90 нм.
