В 2026 году в России стартует проект по созданию первого отечественного литографа, способного производить микросхемы по технологии 90 нанометров. Данная информация была озвучена в конце марта заместителем министра промышленности России. На сегодняшний день в стране успешно функционирует 350-нм литограф, а также завершаются работы по разработке 130-нм модели.
Российская микроэлектронная отрасль активно движется к импортозамещению литографического оборудования, и к 2026 году намечено начало работ над третьим по счету литографом, на этот раз с технологией 90 нм. Этот техпроцесс позволит производить широкий спектр микросхем, включая компоненты для интернета вещей, автопрома и RFID-технологий.
Зеленоградский нанотехнологический центр, отвечающий за разработку отечественных литографов, сообщал о заключении контрактов на поставку новых машин и освоении фотолитографии без импорта. Ожидается, что к 2030 году будут готовы установки на 65 и 28 нм, хотя необходимо учитывать временные рамки между опытными образцами и серийным производством. При стабильном финансировании российская микроэлектроника уверенно движется вперед.
