Исследователи из Китая представили новый настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения, который может существенно продвинуть страну к самодостаточности в производстве микрочипов. Эта технология позволяет создавать микросхемы с топологическим узлом всего 14 нанометров. Хотя новое устройство не заменит машины голландской компании ASML, оно станет отличной альтернативой для мелкосерийного производства и выполнения специализированных задач, таких как проверка чипов и прототипирование квантовых процессоров.
В отличие от ASML, использующих сложную лазерно-индуцированную плазму, новый прибор применяет фемтосекундный лазер и газ аргон для генерации ультрафиолетового излучения. Это делает устройство более компактным и дешевым, потребляющим всего 1 микроватт на импульс. Система, имеющая настольные размеры, значительно дешевле традиционных аналогов и требует меньше эксплуатационных затрат. Эта разработка позволяет китайским производителям улучшить выход годной продукции в ключевых технологических узлах и уменьшить зависимость от зарубежных технологий, что имеет важное значение в условиях современных санкций.
