Министерство промышленности и торговли России объявило о разработке первого отечественного оборудования, предназначенного для производства микрочипов. Это событие считается важным шагом в направлении создания полного цикла микроэлектронного производства в стране. Ведомство выделило, что ключевая особенность нового оборудования заключается в обработке заготовок для чипов в вакууме.
Технология была разработана АО «НИИМЭ» совместно с АО «НИИТМ». Они создали кластерные установки плазмохимического травления и осаждения, которые предназначены для производства электронных компонентов с нормами до 65 нанометров. Установка может обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 миллиметров, осуществляя высокоточные операции.
Опубликовано вНовости