Китай создает прототип литографа для чипов

Китайская полупроводниковая индустрия достигла нового рубежа, создав первый прототип литографа для экстремального ультрафиолета (EUV). Эта технология, ранее находившаяся под контролем голландской ASML, критически важна для производства самых современных процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу этой технологии Китаю, новые отчёты подтверждают, что китайские инженеры добились значительного прогресса. За последние годы компании, такие как SMIC, активно пытались воспроизвести технологию ASML, используя устаревшие компоненты и привлеченные специалисты. Ранее ASML выигрывала судебные дела против китайских сотрудников, обвиняя их в краже коммерческой информации. Несмотря на достигнутый прогресс, серийное производство чипов на основе EUV в Китае ещё не начато, однако страна планирует достичь массового производства к 2030 году. Этот шаг происходит на фоне острого технологического соперничества между США и Китаем, особенно в контексте развития искусственного интеллекта. В Китае также продолжается строительство производственных мощностей компанией Huawei в сотрудничестве с SMIC. Литографические машины EUV — результат десятилетий исследований, использующие мощные лазерные лучи для создания сложных схем на кремниевых пластинах.